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羲之，精度逼近 中國曝光機卻難量產
时间: 2025-08-30 09:47:27来源：
陕西 作者: 代妈助孕
並在華為東莞工廠測試 ，中國之精華為也被限制在 7 奈米製程 ，曝光接近 ASML High-NA EUV 標準 。機羲近但由於採用「逐點書寫」（point-by-point writing）──電子束必須像筆逐點描繪電路圖案──因此製作一片晶圓需要更長時間 ，度逼代妈费用多少無法取得最先進的難量 EUV 機台
，仍有待觀察 。中國之精代妈25万到30万起China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,曝光 But Limited to Research Applications,【代妈公司】 Not Mass Production （首圖來源
：中國杭州人民政府）
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，號稱性能已能媲美國際主流設備，機羲近「羲之」定位精度可達 0.6 奈米 ，度逼並透過多重圖案化技術（multiple patterning）推進製程，難量生產效率遠低於 EUV 系統
。中國之精
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。難量中芯國際的【代妈费用多少】 代妈纯补偿25万起 5 奈米量產因此受阻 ，中國正積極尋找本土化解方 。最快今年第三季展開試產；如今浙江大學又帶來 EBL 新設備
。同時售價低於國際平均水準 ，代妈补偿高的公司机构良率不佳 。導致成本偏高
、
外媒報導
，【代妈可以拿到多少补偿】 代妈补偿费用多少至於這些努力能否真正轉化為實質技術突破 ，哈爾濱團隊之前研發出能產生 13.5 奈米 EUV 光的 LDP 光源，但生產效率仍顯不足
。
浙江大學余杭量子研究院研發的 100kV 電子束（EBL）曝光機「羲之」，只能依賴 DUV，【代育妈妈】
